电池片的检验

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电池片的检测 

一、检测的标准

1．高于800lx的直射下，间距电池片30-50cm的间距，看着方位垂直平分电池片表层观查。 

二、检测的方式 1、取放电池片时要轻拿小心轻放，125的电池片维持在1-2的检验速率，150及156的电池片要一整片一整片的开展查验。 

三、检验新项目1．色调偏色2．绒面色素斑3．亮斑4．裂痕、裂缝及破孔5．弯折的6．崩边、豁口、掉角7．印刷偏位8．ttv9．铝珠、铝苞10．包装印刷图型11．跑模12．尺寸

电池片的制作工艺

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影响因素

1. 温度

温度 t 越高，扩散系数 d 越大，扩散速度越快。

2. 时间

对于恒定源：时间 t 越长结深越深，但表面浓度不变。

对于限定源：时间 t 越长结深越深，表面浓度越小。

3. 浓度

决定浓度是因素：氮气流量、源温。

表面浓度越大，扩散速度越快。

4. 第三组元

主要是掺硼量对扩散的影响，杂质增强扩散机制。在二元合金中加入第三元素时，扩散系数也会发生变化。掺硼量越大，扩散速率越快。即电阻率越小，越容易扩散。

控制点

方块电阻，外观，单片均匀性，整管均匀性。

方块电阻： 表面为正方形的半导体薄层在电流方向所呈现的电阻。 r= 电阻率 *l/s, 对方块硅片，长度等于宽度，则 r= 电阻率 / 厚度，方块电阻～ ( １／ ns*xj) ns ：电化学浓度， xj ：扩散结深。

1 ．频率

射频 pecvd 系统大都采用 50khz~13.56 mhz 的工业频段射频电源。较高频率（ >;4mhz ）沉积的氮化硅薄膜具有---的钝化效果和稳定性。

2 ．射频功率

增加 rf 功率通常会--- sin 膜的。但是，功率密度不宜过大，超过 1w/cm2 时器件会造成---的射频损伤。

3 ．衬底温度

pecvd 膜的沉积温度一般为 250 ～ 400 ℃ 。这样能---氮化硅薄膜在hf 中有足够低的腐蚀速率，并有较低的本征压力，从而有---的热稳定性和抗裂能力。低于 200 ℃ 下沉积的氮化硅膜，本征应力很大且为张应力，而温度高于 450 ℃ 时膜容易龟裂。

4 ．气体流量

影响氮化硅膜沉积速率的主要气体是 sih4 。为了防止富硅膜，选择nh3/sih4=2~20 （体积比）。气体总流量直接影响沉积的均匀性。为了防止反应区下游反应气体因耗尽而降低沉积速率，通常采用较大的气体总流量，以---沉积的均匀性。

5 ．反应气体浓度

sih4 的百分比浓度及 sih4/nh3 流量比，对沉积速率、氮化硅膜的组分及物化性质均有重大影响。

理想 si3n4 的 si/n ＝ 0.75 ，而 pecvd 沉积的氮化硅的化学计量比会随工艺不同而变化，但多为富硅膜，可写成 sin 。因此，必须控制气体中的 sih4 浓度，不宜过高，并采用较高的 sin 比。除了 si 和 n 外， pecvd 的氮化硅一般还包含一定比例的氢原子，即 sixnyhz 或 sinx :h 。

6 ．反应压力、和反应室尺寸 等都是影响氮化硅薄膜的性能工艺参数。

电池片丝网印刷技术

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电池片丝网印刷技术

印刷厚度：丝网和感光膜的厚度决定印刷后图形的厚度即线条的厚度，如图 10 所示，在一般情况下，丝网目数越低，丝经越粗，印刷后的浆料层就越高，所用丝网目数较高时，印刷后浆料层就低一些。感光膜的厚度与丝网目数和线条的宽度有关：目数越高，丝径越细，感光膜与丝网的接触面积越小，二者的附着力减小，

果印刷线条变窄，增加感光膜的厚度易造成脱落，所以感光膜较薄，感光膜的厚度约为丝网厚度的 15 ％～ 25 ％；对于背铝和背银工序，选取250 目丝网，其厚度为 58um，感光膜厚度为 10 ～ 15um ，则印后厚度为 68 ～ 73μm ，这里计算出来的厚度时浆料的湿厚度（ wetthickness ）．需经过烘干（ dry ）和烧结（ fire ）才是终厚度（干厚度），干厚度是湿厚度的 30% ～ 40% ；对于正银工序，选取 330 目丝网，其厚度为 44um ，感光膜厚度为 5 ～ 10μm ，则印后湿厚度约为 49 ～ 54μm 。

选择丝网丝径及目数时，要求网格的孔长为浆料粉体粒径的 2.5 ～ 5 倍；目数越低丝网越稀疏，网孔越大，油墨通过性就越好；网孔越小，油墨通过性越差，如图 9 所示。  

网框 ：网框大多采用硬铝及铝合金以承受绷网所产生的力，连接丝网的底面需要较高的平面度，约为 0.04mm × 150mm × 150mm ; 网框规格一般为承印物的 2 倍：以 150mm 电池片为例，承印物面积为

150mm × 150mm ，网框内口的面积应为300mm × 300mm  。